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產品詳細頁
極紫外 (EUV) 球面反射鏡

極紫外 (EUV) 球面反射鏡

  • 產品型號:
  • 更新時間:2023-12-20
  • 產品介紹:極紫外 (EUV) 球面反射鏡具有多層鉬/硅鍍膜,在 13.5nm 下的反射率大于 60%。它們專為 5o 入射角設計,并用于聚焦非偏振 EUV 激光源。表面粗糙度小于 3? RMS,可大程度地降低散射。這對 EUV 波長*,因為 EUV 波長的散射比長波長更多. EUV 球面反射鏡的通帶非常窄,約為 0.5nm,確保只會在高諧波生成 (HHG) 應用中反射 13.5nm 的關注諧波。
  • 廠商性質:代理商
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產品介紹

價格區間面議組件類別光學元件
應用領域電子,航天,綜合

極紫外 (EUV) 球面反射鏡

超拋光基片上的/硅多層鍍膜

13.5nm 下可實現的大反射

設計用于 EUV 光束聚焦應用

適用于 HHG 應用的窄通帶

極紫外 (EUV) 球面反射鏡 具有多層鉬/硅鍍膜,在 13.5nm 下的反射率大于 60%。它們專為 5o 入射角設計,并用于聚焦非偏振 EUV 激光源。表面粗糙度小于 3? RMS,可大程度地降低散射。這對 EUV 波長*,因為 EUV 波長的散射比長波長更多. EUV 球面反射鏡的通帶非常窄,約為 0.5nm,確保只會在高諧波生成 (HHG) 應用中反射 13.5nm 的關注諧波。EUV  球面反射鏡的典型應用包括相干衍射成像 (CDI)、EUV 成像和 EUV 納米加工.

注意:
每個反射鏡均附運行樣本的測試數據.

極紫外 (EUV) 球面反射鏡產品信息

DWL (nm)Dia. (mm)EFL (mm)涂層涂層規格產品編碼
13.525.40250.00Mo/Si Multilayer
Layer: Silicon
Rabs>60% @ 13.5nm#11-730

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