質檢——精密光學測量儀器
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- 更新時間:2023-12-21
- 產品介紹:質檢——精密光學測量儀器LAYERTEC的精密光學設備配備了用于平面和球形曲面的干涉儀。可以為平面度為λ/ 20(633nm)的平面基板和形狀度為λ/ 10(633nm)的球形基板提供干涉測量規程。
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產品介紹
品牌 | 其他品牌 | 價格區間 | 面議 |
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組件類別 | 光學元件 | 應用領域 | 醫療衛生,環保,化工,電子,綜合 |
質檢——精密光學測量儀器
LAYERTEC致力于確保當前和未來產品的質量。
我們*的測量設備可用于監督基材和涂層的生產。
例如我們定期測量
Ø表面形態
Ø表面粗糙度/精加工質量
Ø光譜透射率和反射率
Ø頻譜相位和GDD(如果適用)
Ø使用以OPO為光源的寬帶腔衰蕩設置在寬波長范圍內進行高級反射率測量
Ø某些波長和脈沖長度的損傷閾值測量
質檢——精密光學測量儀器
LAYERTEC的精密光學設備配備了用于平面和球形曲面的干涉儀。可以為平面度為λ/ 20(633nm)的平面基板和形狀度為λ/ 10(633nm)的球形基板提供干涉測量規程。
LAYERTEC還使用高性能的Fizeau干涉儀和Twyman-Green干涉儀在以下測量范圍內對大型光學器件的形狀公差進行測量:
平面:
Ø最大∅= 300mm
Ø測量精度:平坦度λ/ 100(546nm)
球面:
Ø最大∅= 500mm
Ø測量精度:形狀公差為λ/ 50(546nm)
原子力顯微鏡(AFM)是有用的儀器,用于表征均方根粗糙度低于5Å的非常光滑的表面。LAYERTEC具有AFM,可控制特殊的拋光過程并根據要求提供檢查方案。
涂層測量工具
LAYERTEC的檢查程序包括在120nm至20µm的波長范圍內對鍍膜光學元件進行分光光度測量。使用PERKIN ELMER分光光度計Lambda950®,Lambda750®和Lambda19®在190nm – 3200nm波長范圍內進行標準分光光度測量。對于超出此波長范圍的測量,LAYERTEC配備了FTIR光譜儀(對于λ=1μm...20μm)和VUV光譜儀(對于λ= 120nm ... 240nm)。
通過腔衰蕩時間光譜法測量高反射率,R = 99.9 ... 99.9995%。實際上,LAYERTEC配備了各種CRDS測量系統,可以在355nm至1064nm的波長范圍內使用。此外,還提供了一種新穎的寬帶CRDS設置,該設置可以測量220nm至2300nm之間的低損耗反射鏡的反射率。
LAYERTEC配備了LIDT測量設置,工作于266nm,355nm,532nm和1064nm且具有ns脈沖。
還可以與耶拿光子技術研究所,弗勞恩霍夫研究所耶拿Jena和漢諾威激光Zentrum合作,對光學薄膜和塊狀材料的吸收和散射損耗進行測量,并對激光損傷閾值進行測量。
菲索干涉儀(SOLITON MiniFIZ 300)
干涉儀(OptoTech®)
原子力顯微鏡(DINanoscope®)
分光光度計
腔振鈴設置
GDD測量設置
低損耗光學元件的反射率和透射率的測定
低損耗光學組件的反射率值R> 99%和透射率值T> 99%可以通過腔衰蕩時間測量非常準確地測量。與在光譜儀中進行測量相比,該方法具有三個主要優點:
Ø適用于非常高的反射率和透射率
Ø無法獲得比實際值高的測量值
Ø精度很高
基本CRD測量設置
Layertec帶有各種腔衰蕩系統,通過這些系統可以穩定地控制光學組件的質量。有關更多詳細信息,請參見我們的目錄內容“低損耗光學器件和腔衰蕩時間測量簡介”。
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相位優化的fs-Laser寬帶鏡-CRD測量示例
低損耗鏡-CRD測量示例
轉向鏡-寬帶CRD測量示例
薄膜偏振片-CRD測量示例
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