CVD鉆石光學元件材料
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- 更新時間：2023-12-21
- 產品介紹：CVD鉆石光學元件材料這種鍍膜對于暴露在惡劣環境中的光學器件，以及需要經常清潔的應用，如切割、鉆孔、劃線和打標，可能會有飛濺物和碎屑附著在光學表面上，特別有用。這種低吸收性鍍膜也是對熱穩定性敏感的應用的理想選擇。
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產品介紹
| 品牌 | 其他品牌 | 價格區間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 組件類別 | 光學元件 | 應用領域 | 醫療衛生,環保,電子 |
CVD鉆石光學元件材料
鉆石鍍膜抗反射ZnSe
鉆石鍍膜抗反射ZnSe元件材料
II-VI's Diamond OverCoat (DOC)是一種混合型抗反射（AR）鍍膜，比傳統的Ge類金剛石碳（DLC）鍍膜具有更高的光學性能，比標準的AR設計具有更好的耐久性。這種鍍膜對于暴露在惡劣環境中的光學器件，以及需要經常清潔的應用，如切割、鉆孔、劃線和打標，可能會有飛濺物和碎屑附著在光學表面上，特別有用。這種低吸收性鍍膜也是對熱穩定性敏感的應用的理想選擇。
DOC/AR鍍膜通常應用于光學器件的一面，但也可以應用于兩面。反射性鍍膜的DOC設計也可用于鏡面。
可清洗
特別設計的防金屬濺射功能
防刮傷
輕松去除附著在光學表面的灰塵、污垢等雜物。
高傳輸
與傳統的DLC鍍膜相比，性能有所提高
吸收率低，熱穩定性好
多用途
可在各種基材上進行透射和反射應用。ZnSe、銅、鉆石、SiC、硅、其他
可提供非釷版本
單一波長和寬帶波長可供選擇
鍍膜可適用于各種幾何形狀
特性
材料——硒化鋅
| 規格 | 標準 |
| 尺寸公差 | 直徑：+ 0.000 / - 0.127mm |
| 邊緣厚度變化 (ETV) | < 3 弧分 |
| 通光孔徑 | 直徑的 90 % |
| 0.63 µm 處的表面圖形（功率/不規則性） | 1.0 條紋 / 0.5 條紋（12.7 毫米 - 63.5 毫米直徑） |
| 表面質量 | 20 - 10 |
| 10.6 µm處每個表面的增透膜反射率 | < 0.2 % |
| 直徑 | 10 毫米 - 300 毫米 |
鍍膜 DOC/AR
| 基材 | ZnSe |
| 可用的光譜范圍 | 9.2 - 10.7 µm |
| 9.4 x µm (DOC/AR) 的光譜性能 | 透射率 > 98.5 %（通過兩個表面） 反射率 < 0.2 %（每個表面） |
環保性能
該鍍膜旨在滿足以下 MIL 規范的耐用性要求：
3.4.1.1 附著力
3.4.1.2 濕度
3.4.1.3 中度磨損
3.4.2.1 溫度
3.4.2.2 溶解性和清潔性
光譜性能
9.4 x µm (DOC/AR) 的光譜性能
每個表面反射 < 0.2 %
透射率 > 98.5 %
吸收率 < 0.9 %
這種鍍膜可以設計成在其他 CO2 波長下具有類似的性能。
CVD鉆石光學元件材料
多晶CVD金剛石由于其出色的性能，長期以來一直被認為是各種應用的終/極材料。它優良的硬度是精密工具和加工工藝的優勢。金剛石的高導熱性使它在熱管理應用中非常有用。其廣泛的光學傳輸范圍使金剛石窗口能夠進入半導體制造的尖/端光刻系統。此外，它在微波波段的透明度為微波工程的應用開發開辟了一個完整的世界。在其較純凈的形式下，多晶CVD鉆石沒有電子陷阱，使其成為高能應用中使用的超敏感核探測器的理想材料。
通過等離子體化學氣相沉積法生長，II-VI公司的鉆石產品經過優化，充分利用了使鉆石成為超級材料的品質。II-VI Incorporated將晶體生長與較*的光學級加工相結合，通過整形和拋光、質量保證和涂層，其廣泛的CVD金剛石產品組合包括高透明度的微波窗和靈敏度最高的金剛石核探測器。II-VI Incorporated對金剛石材料研究和開發的強烈承諾使我們能夠與希望利用多晶CVD金剛石的驚人品質的所有市場客戶密切合作。
透明窗和光學器件
在II-VI ，光學金剛石正在大批量生產。我們一直在生產具有優質光學質量的材料（低1微米散射，低10.6微米體吸收，低632.8納米的雙折射），其截面尺寸和厚度范圍廣泛。
通過利用制造和涂層方面的核心技術，II-VI ，成為極紫外光鉆石窗口的優良品牌，這對下一代半導體制造的*光刻工具至關重要。
熱管理解決方案
通過調整我們的生長過程，II-VI ，已經開發出為各種高性能熱管理應用生成多晶CVD金剛石的能力。熱導率的規格范圍高達2200 W/m-K以上。利用我們優良的制造設施，我們能夠根據客戶的規格制造出直徑大至145mm、厚度達2mm的超平和超光滑的部件，以確保與設備的優良的熱接觸。
微波透明光學器件
II-VI 制造高質量的鉆石光學產品，在微波區域是透明的。結合我們內部對直徑大至145mm的窗口和透鏡進行拋光和鍍膜的能力，II-VI 已經準備好滿足核聚變研究等領域對微波透明材料的需求。
加工解決方案
II-VI 已經開發出一種金剛石薄膜，在加工較堅硬的材料時，擁有堪稱*的硬度和磨損率。通過將我們較*的拋光和制造技術與我們內部的激光制造設施相結合，我們能夠以有競爭力的價格生產出優良的產品。
核檢測器解決方案
使用精細調整的超高純生長工藝，II-VI ，生長出的多晶金剛石薄膜表現出優良的電荷收集距離。對于500微米厚的成品部件，可以獲得一致的結果。
主要的CVD鉆石應用
CVD金剛石的應用包括多光譜激光光學、介電窗、散熱片等。
金剛石是各種應用的終/極材料，因為它具有出色的性能，包括極/強的硬度和強度、高導熱性、低熱膨脹、出色的介電性能、抗化學侵蝕以及在寬光譜范圍內的光學傳輸。
我們在較*的生長和制造設施中生產高質量的多晶CVD金剛石基片。材料采用等離子體輔助化學氣相沉積工藝生長，用激光切割成所需的尺寸，并按照客戶的要求對表面進行加工。我們還提供其他特殊的制造服務，如邊緣研磨、激光雕刻以及光學組件的設計和制造。II-VI ，專門為金剛石基片提供*的光學涂層，包括單波長或多光譜應用的AR、HR和TFP。
II-VI 所提供的一些產品包括。
用于工業激光應用的高功率CO2激光窗口（10微米范圍）。
用于工業或研究應用的高功率多光譜激光窗口。
用于聚變和定向能應用的高功率mm波窗口
用于極/端熱管理應用的熱擴散器
用于需要超硬材料的機械應用的產品。
主要的CVD鉆石應用
CO2激光窗(10.6µm)
- 高功率工業激光器
高功率微波窗
- 陀螺儀、聚變反應堆
- 雷達、定向能應用
熱管理
- 散熱器
| 生長方法 | 等離子化學氣相沉積 |
物理特性
| 結構 | 立方，多晶 |
| 晶粒大小 | 取決于厚度和工藝（0.05 - 1mm） |
| 等級 | 光學、熱、微波、探測器、機械、客戶定制 |
| 厚度* | 最大 2 mm |
制造能力*
| 尺寸 | 激光切割客戶規格，最大直徑145mm |
| 尺寸公差 | +/- 50µm |
| 拋光縱橫比 | 高達 50:1 的直徑高達 145 mm |
| 功率 | <0.5_fr/cm |
| 不規則度 | <0.5_fr/cm |
| 透射波前 | <0.5_fr/cm |
| 表面粗糙度 | <15nm |
熱性能（熱級材料）
| 導熱系數 | 室溫下高達 >2,200 (W/mK) |
| 熱膨脹系數 | 1 (10-6 K-1) |
| 比熱 (25oC) | 0.536 (J g-1 K-1) |
光學特性（光學級材料）*
| 體積吸收@10.6µm <0.07(cm-1) | <0.07(cm-1) |
| 體積吸收@1um <1(cm-1) | <1(cm-1) |
| 散射@1µm <0.7(cm-1) | <0.7(cm-1) |
微波級材料
| 微波損耗角正切(Tan δ) | <2e-5 |
*這代表標準生產。 可根據要求提供產品數據表和規格。
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